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纳米器件

纳米材料为研究人员带来了巨大的机遇和挑战。由于在纳米量级具有独特的光学、磁性、电气和机械属性,这些材料的属性会随着长度级别的变化而持续或立即发生变化。

为了将设备性能与结构或设计关联起来,研究解决方案必须能提供全套工作流,涵盖从 CAD 到原型设计到表征的全部过程,还要能处理小至几十纳米的长度级别。

顶尖的 MEMS 和 NEMS 工程师正在使用 FEI 解决方案设计功能器件,以及充分表征它们的物理和机械属性。借助 CAD 数据和精度极高的电子束化学制剂精确引导原型设计工艺,研究人员能够使用 FEI 解决方案缩短器件上市时间并提高成本效率。

特色产品

使用 Helios G4 UX DualBeam 打造功能原型

Helios G4 UX 能够对最多样、最复杂且临界尺寸小于 10 nm 的三维结构进行快速精确的铣削和沉积,包括在较大的面积上制作多个原型结构。您可以使用 FEI NanoBuilder™ 2.0 规划多层纳米结构的构造并引导图案形成过程:聚焦离子束 (FIB) 光刻、气体辅助 FIB 光刻、FIB 诱导沉积和电子诱导沉积。

除了原型设计功能外,Helios G4 UX 还能在极其广泛的工作条件下提供最佳纳米量级细节。无论是在 STEM 模式下以 30 kV 运行并获取结构信息,还是以 500 V 运行并获取不受电荷影响的表面细节信息,Helios NanoLab 660 都可提供远低于 1 nm 的分辨率。凭借无与伦比的快速、精确、可靠的铣削能力和卓越的低电压 FIB 性能,久经考验的 Helios G4 UX 能够制备最佳质量的薄样品,以便使用原子尺度的 S/TEM 或原子探针显微技术进行观察。

详细了解 Helios G4 UX,或下载 NanoBuilder 2.0 数据表 以便了解有关我们独一无二的纳米原型设计工具套件的详细信息。

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文档

使用 DualBeam™ 仪器制作纳米器件以及快速开展原型设计

通过一个仪器对所有类型的材料均采取聚焦离子束 (FIB) 光刻模式并对各种材料进行精确的电子束诱导气相沉积,被视为真正快速原型设计的全新方式。由于能够实时观测布图流程,并立即以高分辨率对最终结构成像,因而能够以独特的方式控制布图流程,并立即为操作员提供反馈回路。FIB 基质具有独特的交互方式,需要采取专门的策略来执行图案设计,才能成功进行纳米原型设计。此应用注释介绍了不同布图策略的影响,可用作成功制备纳米器件的指南。

Products for 纳米器件

Helios G4 FX 材料科学应用
Helios G4 FX 是世界上第一个通过类 TEM CompuStage 实现 TEM 薄片样品制备的 DualBeam™,而且它还与全新的透镜内 STEM 4 探测器结合,大大减少了获得高质量可用数据的时间。
Helios G4 UX 材料科学应用
Helios G4 CX 的最新技术创新结合最易用、最全面的软件和 FEI 的应用专长,允许最快最简单地制备用于广泛材料的位置特异性超薄 HR-S/TEM 样品。
Titan Themis 材料科学应用

Titan Themis 专为实现卓越的高通量、原子级化学和结构分析而设计,它集经过验证的球面像差 (Cs) 校正器、单色仪系统和灵敏的 ChemiSTEM™ 技术与全新增强压电工作台、FEI Velox™ 软件及 FEI Ceta 1600 万像素 CMOS 镜头于一身,能够提供最快速的导航和瞬时缩放,以便联系从介观长度尺度到原子长度尺度的细节。

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